详细介绍

本设备是一款小型高真空电阻蒸发镀膜仪，主要特点是设备体积小，结构简单紧凑易于操作，也可整机放置于手套箱内，对实验室供电要求低；该系列设备主要部件采用进口或者国内最优的配置，从而提高设备的稳定性；另外自主开发的智能操作系统在设备的运行重复性及安全性方面得到更好地保障。
该设备配3组电阻蒸发源（可兼容金属与有机蒸发），适用于实验室制备金属、有机物蒸发。广泛应用于高校实验室和科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等。特别适合OPV/钙钛矿/无机薄膜太阳能电池、半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。
设备主要配置表

真空腔室	1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质，氩弧焊接，上开盖和前开门结构
真空系统	机械泵+分子泵（国产或进口可选）， 极限真空优于8*10-5Pa（设备空载抽真空24h），大气~8*10-4Pa≦30min；采用电阻电离一体化真空规管读取真空度；阀门采用电磁驱动挡板阀和手动限流阀
蒸发系统	蒸发源采用3组水冷铜电极，蒸发电源采用2KW逆变式电源，配源间防污隔板
基片台	可拆卸式，尺寸60*60mm，旋转：0-20r/min可调，可加热至300℃，可选水冷或是带角度调节功能的基片台
膜厚监控仪	可选配进口或国产膜厚监控仪在线监测和控制蒸发速率、膜厚
控制系统	PLC+触摸屏智能控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空
设备尺寸	L60cm×W60cm×H96cm 机电一体化机架，预留1个CF35法兰接口

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