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CVD系统有什么特点

  CVD系统以进口电阻丝瑞典为加热元件,采用双层壳体结构和日本岛电控温仪表,能进行40段程序控温,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。
 
  适用范围:
  CVD系统设备可在片状或类似形状样品表面沉积SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、纳米硅、SiC、类金刚石等多种薄膜,并可沉积p型、n型掺杂薄膜。沉积的薄膜具有良好的均匀性、致密性、粘附性、绝缘性。广泛应用于刀具、高精模具、硬质涂层、装饰等领域。

 

  CVD系统使用特点说明:
  1、多晶纤维炉膛,节能耐腐蚀:重量轻、升温速度快、节能、省时、耐高温、耐腐蚀、保温性好,能满足何种快速烧结的要求。
  2、高纯石英炉管炉管采用高纯度石英玻璃材料工艺加工:具有极低的热膨胀系数、耐高温、化学稳定性好、电绝缘性好。
  3、双层内胆炉壳双层内胆炉壳,配有风冷系统,快速升降温:整个炉体采用双层内胆式结构,中间有气隙隔离,即使炉膛温度高达1200℃,炉体表面仍然可以安全触摸无滚烫感觉。
  4、真空法兰法兰采用双环密封技术:有效的提高了法兰的气氛性,法兰上装有多种接头,可接电阻真空计、真空波纹管并能做成容易撤卸的铰链式。
  5、合金电热丝内嵌式合金电热丝,升温快,寿命长:加热元件采用优质内嵌式合金电热丝,发热效率高、耐高温、抗氧化、耐腐蚀、升温快、寿命长、高温变形小、安装维修方便,使用寿命长。
  6、微电脑PID控制器微电脑PID控制器,操作简便:操作简便,控温准确、可靠、安全多段可编程控制,可以简化复杂的试验过程,真正实现自动控制和运行。

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